我国新一代光刻机模型亮相

原文摘录：【我国新一代光刻机模型亮相】11月5日至10日，第九届中国国际进口博览会在上海举行。会上，一系列重磅科技亮相。上海微电子装备集团携自主研发的新一代前道干式扫描投影光刻机SSC800、SSB800（模型）亮相中国馆，展示我国前道光刻装备自主化的阶段性成果。据悉，目前国产前道干式光刻机成像性能已与国际同类领先产品水平相当，套刻精度、生产效率紧密追赶国际标杆。（上证报）

摘自 新浪财经 · 公司快讯

还没有足够的连续观测数据，暂不绘制趋势。