空白掩膜版供需矛盾凸显：三星需求或年复合增25% 供应商扩产难解近渴

原文摘录：《科创板日报》11月11日讯据韩媒消息，韩国半导体行业人士透露，三星电子半导体采购部门对明年的生产工艺情况进行模拟后，判断EUV空白掩膜版用量将大幅增长，因此向日本空白掩膜龙头豪雅（HOYA）提出，希望增加空白掩膜版供应量。但豪雅表示，其他半导体制造商的需求也在大幅增长，难以完全满足三星电子提出的增供要求。

摘自 东方财富 · 产经资讯

还没有足够的连续观测数据，暂不绘制趋势。