iPhone Duo溢价暴跌;特斯拉高管披露Roadster"飞"技术细节
特斯拉车辆工程副总裁拉尔斯·莫拉维披露,新款Roadster引入源自SpaceX的气体推进系统及风扇负压吸附技术,整车估算重量略低于1700千克,目前有4至5台原型车,计划明年年初扩大原型车制造规模。iPhone Duo本周五开启预售,1TB版本9月11日定价21499元一度溢价至79999元,目前第三方渠道黄牛仅加价3000元。
特斯拉车辆工程副总裁拉尔斯·莫拉维披露,新款Roadster引入源自SpaceX的气体推进系统及风扇负压吸附技术,整车估算重量略低于1700千克,目前有4至5台原型车,计划明年年初扩大原型车制造规模。iPhone Duo本周五开启预售,1TB版本9月11日定价21499元一度溢价至79999元,目前第三方渠道黄牛仅加价3000元。
据快科技报道,英伟达为下一代AI加速器开发的定制HBM(NVHBM)将促使三星与台积电合作开发3纳米基底芯片,美光和SK海力士也被纳入该计划。英伟达表示,NVHBM相比标准HBM4E产品预计可提供高达30%的额外内存带宽,功耗降低最多15%。英伟达要求供应商统一采用台积电3纳米工艺生产基底芯片,核心存储芯片采用第六代DRAM的1c工艺节点;三星仍在评估自家代工产能方案。
据报道,三星电子计划使用台积电3纳米工艺,为英伟达下一代定制高带宽内存生产基底裸片。
据韩国《首尔经济日报》援引未具名业内人士消息,三星电子计划使用台积电3纳米工艺,为英伟达下一代定制高带宽内存生产基底裸片。报道称英伟达已要求三星、SK海力士和美光在定制NVHBM产品的基底裸片生产上统一采用台积电3纳米工艺,以保障性能一致。该产品基于第七代HBM4E架构开发,若属实将是三星首次在HBM制造环节与台积电合作。
三星将在英伟达下一代HBM芯片中使用台积电技术。
据韩国媒体10月18日晚间报道,机构上修SK海力士三季度业绩预期,预测营收98.23万亿韩元、营业利润76.96万亿韩元,部分机构预计营业利润有望突破80万亿韩元,其正式财报将于10月28日发布。机构给出的上修理由是HBM高价长协持续兑现与通用DRAM现货、合约价双重上涨。韩国经济副总理兼财政部长李炯日表示,半导体行业繁荣势头“至少将持续到2027年”。
针对近期科技板块调整,多家投资机构和券商分析师表示,短期市场扰动更多是情绪扰动,并非产业逻辑逆转,科技产业中长期趋势仍在。科创板已有20余家上市公司披露2026年前三季度业绩预告,长鑫科技预计前三季度营收约2650亿元至2700亿元、归母净利润约1310亿元至1325亿元,同比扭亏为盈。三季度以来科创板新增回购计划超40份,预计回购金额上限合计近50亿元。
京东方与康宁宣布升级联合创新空间,合作从传统显示拓展至玻璃基封装载板、钙钛矿器件、光互连等方向;京东方在投资者交流中披露已有24层玻璃基载板产出并送样,通过多项国际信赖性标准测试。
韩国财政部长李炯日表示,半导体行业繁荣势头至少将持续到明年,因供需缺口仍大且供应端持续扩张。他同时提及,有专家预计到2029年半导体将出现大量新增供应,存储芯片市场或变成“红海”。上周韩国芯片股遭猛烈抛售,KOSPI指数跌超8%触发熔断,费城半导体指数连续第八个交易日收跌。
韩国边缘AI芯片初创企业DeepX正依托先发战略布局全球物理AI市场,其旗舰NPU芯片DX-M1已采用三星5纳米工艺实现量产,并推进接入英特尔OpenVINO生态,相关成果预计明年初落地。公司计划本月完成三星2纳米新工艺芯片流片,首批芯片预计明年3至4月产出;2025年8月至2026年7月斩获十余个国家77份订单,已签约27家全球半导体分销商。CEO金洛元表示希望未来三年内完成IPO。
10月15日下午2点25分左右各大指数止跌反弹,易方达沪深300ETF最后半小时买入超百亿元,全天成交超190亿元,创今年1月底以来天量。10月16日A股成交1.56万亿元,半导体成交金额最高超1800亿元,复旦微电、江波龙、沐曦股份等发布三季报业绩利好。
三星生物10月13日公布对瑞士多肽CDMO企业Polypeptide集团要约收购的初步中期结果,每股44.31瑞郎,约2901.44万股应约,占目标股份87.88%,超过66.7%的最低接纳门槛。
10月16日A股三大股指集体高开后午后单边下行、全线翻绿,尾盘反抽后涨跌互现,上证综指涨0.24%报3716.28点,深证成指跌0.12%,创业板指跌0.39%。两市及北交所共3298家上涨、2123家下跌,成交15554亿元,较前一交易日减少776亿元。国防军工、地产、汽车板块领涨,传媒、半导体午后走软,药明康德触及跌停拖累创新药方阵,尾盘银行、保险、煤炭等红利资产护盘。
快科技10月16日消息称,长鑫科技2027年产能上修约30%,达到38-42万片晶圆/月,并预计2028年总产能从当前30万片晶圆/月翻倍至60万片晶圆/月。文章称长鑫在DDR、LPDDR等通用内存上追赶较快,HBM方面今年量产HBM4、明年才推出HBM3e,并判断明年国产HBM3e将迎来爆发期。
截至10月16日午间收盘,长鑫科技(688825.SH)涨超5%,总市值3.11万亿元,再次超越工商银行(601398.SH)成为A股总市值第一。中信证券10月16日晨报表示,需客观看待存储周期,长鑫科技4F²技术仍处于早期验证阶段,后续需观察良率、产量、毛利率、下游客户认证等指标,该技术对中短期存储产业影响相对较小。
据东方财富证券聚焦报道,本周截至周四,全球市值最高的20只AI和半导体股票合计蒸发超1万亿美元市值,英伟达、AMD、SK海力士、三星电子等普遍下跌。加息预期升温、AI融资担忧及行业竞争加剧打压市场情绪,博通和英特尔CEO均警告融资或成AI繁荣主要逆风。分析师丹·艾夫斯认为最新回调提供买入机会,AI算力潜在需求依然强劲。
存储芯片概念盘中震荡反弹,长鑫科技涨超5%,总市值重返3万亿上方,聚辰股份涨超10%,澜起科技、普冉股份、兆易创新、太极实业涨幅靠前。消息面上,早盘韩国股市高开高走,存储芯片龙头SK海力士涨逾3%,三星电子涨近3%。
IDC初步数据显示,2026年第三季度全球智能手机出货量降至2.553亿部,同比萎缩22.0%,创有纪录以来季度同比最大降幅。IDC称存储芯片成本较去年上涨约350%,前五大品牌出货量同比均下滑,OPPO、vivo降幅均超30%。IDC预计市场增长受限至2027年,复苏至少推迟到2028年。
推荐理由:IDC与Omdia的季度出货数据及成本判断,可用于观察存储涨价对手机终端需求与厂商格局的传导。
长鑫科技登陆科创板两个多月,截至10月15日股价较上市首日收盘价下跌11.04%,最新市值2.96万亿元,较4.2万亿元高点跌破3万亿。公司相关负责人10月10日表示,预计今年年底推出融合4F²架构及混合键合的新一代DDR5 RDIMM产品,此前9月20日宣布第五代工艺平台量产。2026年上半年公司营业收入1503.1亿元,同比增长873.64%,归母净利润776.05亿元,同比扭亏为盈。
中信证券研报称,近期全球存储芯片股价波动加剧,10月份以来表现显著弱于其他板块,除宏观因素扰动外,市场对长鑫科技4F²技术进展的关注升温,担心中国本土晶圆厂在服务器DDR5市场形成技术破局。研报指出,目前DRAM仍以6F²单元结构为主,4F²技术处于早期验证阶段,后续需观察良率、产量、毛利率、下游客户认证等指标,对中短期存储产业影响相对较小,建议关注HDD、DRAM、NAND赛道中公司的投资机会。
IDC初步数据显示,2026年第三季度全球智能手机出货量降至2.553亿部,同比萎缩22.0%,创有纪录以来季度同比最大降幅。IDC称存储芯片成本较去年上涨约350%,前五大品牌出货量同比均下滑,OPPO、vivo降幅均超30%。IDC预计市场增长受限至2027年,复苏至少推迟到2028年。
推荐理由:IDC与Omdia的季度出货数据及成本判断,可用于观察存储涨价对手机终端需求与厂商格局的传导。
《科创板日报》报道,长鑫科技登陆科创板两个多月来股价较上市首日收盘价下跌11.04%,最新市值2.96万亿元,自上市至今区间最高价跌幅近30%。公司10月10日宣布预计今年年底推出融合4F²架构及混合键合的新一代DDR5 RDIMM产品,9月20日宣布第五代工艺技术平台量产。2026年上半年公司实现营业收入1503.1亿元,同比增长873.64%,归母净利润776.05亿元,同比扭亏为盈。
推荐理由:材料汇总长鑫科技上市后股价与市值变化、DRAM新技术量产进展及全球存储价格预期,可用于观察国产DRAM厂商技术节奏与存储供需分歧。
ASML发布2026年第三季度财报,净销售额116.62亿欧元,环比增长约25%,创单季度新高,净利润49.60亿欧元,环比增长约70%,毛利率升至57.5%。公司预计第四季度净销售额142亿至152亿欧元,全年440亿至450亿欧元,为连续第三个季度上调全年展望。CEO傅恪礼在业绩电话会上表示,客户对光刻设备的需求已延伸至2028年以后,部分客户已表达2029年至2030年设备的采购意向。
推荐理由:材料呈现ASML三季度业绩、四季度及全年指引与产能、提价、客户需求节奏,可用于观察光刻设备供需与存储扩产对设备端的传导。
三星电子宣布已开始向主要全球客户出货业界首款12层HBM4E样品,并计划在样品出货和优化后按客户时间表启动量产。该产品引脚速度稳定为14Gbps、可扩展至16Gbps,较HBM4提升逾20%,单堆栈带宽最高3.6TB/s,12层容量48GB、较上一代增加逾30%,并计划按客户需求扩展32GB(8层)和64GB(16层)配置。
推荐理由:三星披露HBM4E样品出货及速度、容量、能效等参数,可观察下一代HBM产品阶段与量产节奏。
三星电子宣布与AMD签署谅解备忘录,扩大在下一代AI存储与计算技术上的战略合作。根据备忘录,双方将就下一代AMD AI加速器Instinct MI455X GPU的主要HBM4供应,以及代号“Venice”的第6代AMD EPYC CPU所用先进DRAM方案进行对接。
推荐理由:三星与AMD签署谅解备忘录,明确HBM4与DDR5供应方向并提及代工合作讨论,可观察AI存储供应链的绑定进展与阶段约束。
三星电子宣布在其器兴园区为新半导体研发综合体NRD-K举行设备搬入仪式,该综合体2022年动工,将作为存储、System LSI和晶圆代工研发基地。三星计划到2030年为此投资约20万亿韩元,占地约10.9万平方米,其中研发专用产线计划于2025年年中开始运营。
推荐理由:三星披露其新建半导体研发综合体NRD-K的设备搬入节点、投资规模与专用产线投运时间,可用于跟踪其下一代存储与代工研发节奏。
三星电子宣布开发出业界首款、容量最高的12纳米级32Gb DDR5 DRAM,此前已于2023年5月开始量产12纳米级16Gb DDR5 DRAM。该产品在相同封装尺寸下容量为16Gb DDR5的两倍,128GB模块无需TSV工艺即可生产,功耗较采用16Gb DRAM的128GB模块降低约10%。三星计划在今年年底前开始量产该12纳米级32Gb DDR5 DRAM。
推荐理由:三星披露12纳米级32Gb DDR5 DRAM开发进展与量产时间表,可用于跟踪高容量DRAM技术路线与数据中心能效诉求。
三星电子宣布已完成业界首款GDDR7 DRAM的开发,今年将率先搭载于主要客户的下一代系统进行验证。该产品为16Gb容量,带宽达1.5TBps、每引脚速率最高32Gbps,采用PAM3信号方式,能效较GDDR6提升20%,热阻降低70%。三星表示将根据行业需求推向市场。
推荐理由:三星披露GDDR7完成开发及带宽、能效、封装等参数,可了解下一代显存标准的技术路线与客户验证节奏。